超声波清洗设备
用于实验室和一般清洗
适用于实验室和清洗较小的工件,如玻璃、或少量的工件。
WTC-404 / WTC-408 [台式超声波清洗机]
四种振荡模式提供强有力的清洗,减少清洗不均匀。
W-113A [台式超声波清洗机]
这种紧凑型清洗机配备了一个三频多振荡系统,可选择三种不同的频率,具有不同的清洗特性,以提高清洗效果。
W-113MKII [台式超声波清洗机]
两个频率接近的 "强清洗 "模式可以清除顽固的污垢。
WV-231-S1 [台式超声波清洗机]
通过降低清洗槽内的压力(减压),它还能有效地清洗一般难以清洗的微孔和盲孔内部。 它还能减少清洗时间。
工业清洗机
这些清洗机在工厂中用于清洗零件和其他部件。
可以根据客户要求制造由振荡器和换能器单元组成的独立类型。
WDX系列[超声波清洗机分离型]
我们独特的DynaShock Modulation(DM)系统,通过全数字技术实现了从弱到强的清洗,提供最佳的清洗力。
WA系列[超声波清洗机分离型]
RS485通讯(MODBUS® RTU)可以检查各种设置和操作条件。 可以设置频率和输出功率,并可读出振荡状态,用于预防性维护。
WSC28 / 40 [超声波清洗机分离型]
FM+AM振荡确保了槽内超声波的均匀性,减少了清洗的不规则性,更能抵抗清洗材料、液体类型和深度的负荷波动。
WSC(M)系列[超声波清洗机分离型]
用于生产线、设备集成和节省空间的紧凑型工业清洗机。
WTC-600-40/WTC-1200-40 [台式超声波清洗机]
大型桌面式洗衣机。 除了大容量的洗涤槽和高产量之外,该机器还可以通过语音指导和光电开关进行免提操作;FM+AM调制系统减少了不均匀的洗涤,是一种高效、节能的类型。
半导体行业的清洗机
用于清洗半导体晶圆和掩模的高频清洗机。
根据不同的目的,可以进行批量清洗和单晶硅清洗。
W-357BM系列[高频分离型]
分离式清洗机由一个发振器和一个换能器单元组成。
批量式清洗允许一次清洗多个半导体晶圆。
振荡器单元可根据客户要求制造。
流动水式超声波清洗机[高频点式]
脉冲喷射清洗机在干净的水流中进行清洗。
适用于单晶片清洗。
流动水式超声波清洗机[高频线型]
脉冲喷射清洗机在干净的水流中进行清洗。
颗粒会被清洗液流水幕所清除。
石英振动体清洗机【高频石英振动体清洗机】
这种清洗机通过在石英振动体上叠加超声波来清洗晶片和掩模。
它实现了低损害和高清洗度。
声压计
将传感器放在超声波清洗机的水槽(或流动的水)中,声压强度以mV为单位显示。
HUS-3 [便携式声压计]
是清洗质量控制的必需品,用于监测超声波清洗机的超声波输出。 配有可充电电池,便于携带。
超声波清洗系统
超声波清洗系统
使用具有内部设计独特功能的换能器,公司可以灵活地响应客户的要求,生产具有定制规格的设备等。
超声波清洗机的可选配件
超声波清洗机的可选配件
对使用本多电子超声波清洗机有用的各种选项清单。