超声波清洗设备

工业清洗机

这些清洗机在工厂中用于清洗零件和其他部件。
可以根据客户要求制造由振荡器和换能器单元组成的独立类型。

WDX系列[超声波清洗机分离型]

我们独特的DynaShock Modulation(DM)系统,通过全数字技术实现了从弱到强的清洗,提供最佳的清洗力。

WG系列[超声波清洗机分离型]

通过将AM扫频模式与4种发振模式相结合,实现了8种发振模式的自由选择。与传统机型相比,可针对多种工件及污染物进行优化清洗,有效抑制清洗不均,提高整体清洗性能。

WSC28 / 40 [超声波清洗机分离型]

FM+AM振荡确保了槽内超声波的均匀性,减少了清洗的不规则性,更能抵抗清洗材料、液体类型和深度的负荷波动。

WSC(M)系列[超声波清洗机分离型]

用于生产线、设备集成和节省空间的紧凑型工业清洗机。

WTC-1200-40銘板茶

大型桌面式洗衣机。 除了大容量的洗涤槽和高产量之外,该机器还可以通过语音指导和光电开关进行免提操作;FM+AM调制系统减少了不均匀的洗涤,是一种高效、节能的类型。

半导体行业的清洗机

用于清洗半导体晶圆和掩模的高频清洗机。
根据不同的目的,可以进行批量清洗和单晶硅清洗。

W-357BM系列[高频分离型]

分离式清洗机由一个发振器和一个换能器单元组成。
批量式清洗允许一次清洗多个半导体晶圆。
振荡器单元可根据客户要求制造。

流动水式超声波清洗机[高频点式]

脉冲喷射清洗机在干净的水流中进行清洗。
适用于单晶片清洗。

流动水式超声波清洗机[高频线型]

脉冲喷射清洗机在干净的水流中进行清洗。
颗粒会被清洗液流水幕所清除。

石英振动体清洗机【高频石英振动体清洗机】

这种清洗机通过在石英振动体上叠加超声波来清洗晶片和掩模。
它实现了低损害和高清洗度。

声压计

将传感器放在超声波清洗机的水槽(或流动的水)中,声压强度以mV为单位显示。

HUS-3 [便携式声压计]

轻松确认超声波强度。
配备充电电池,携带方便。

HUS-10_Web_s2

通过同时数字显示输出电压和频率,可以立即读取结果。
通过电压变化率显示,可以一目了然地看出与基准值的变化。

超声波清洗系统

超声波清洗系统

使用具有内部设计独特功能的换能器,公司可以灵活地响应客户的要求,生产具有定制规格的设备等。

超声波清洗机的可选配件

超声波清洗机的可选配件

对使用本多电子超声波清洗机有用的各种选项清单。

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